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ITO导电膜玻璃的组成结构以及制造过程的分析
2020-06-05
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ITO 导电膜玻璃是在钠钙基或硅硼基基片玻璃的基础上，利用磁控溅射的方法沉积二氧化硅和氧化铟锡薄膜加工制作成的一种具有良好透明导电性能的金属化合物。其特点也是比较鲜明，在现代市场的应用也是比较突出的。接下来，小编，也是要详细和大家说明下ITO导电膜玻璃的组成结构和制造过程吧。
ITO导电膜玻璃即氧化铟锡导电玻璃。一般氧化铟与氧化锡之比为9:1，其间起导电作用的主要是氧化锡，而其透明度则由氧化铟操控。据用处、衬底玻璃的不同，ITO导电膜玻璃分为如下三种结构。
一般玻璃衬底为钠钙玻璃，其ITO层厚为250~2000，折射率在2左右。衬底与ITO之间的SiO2阻挠层具有阻挠玻璃中Na+、Ca2+等离子的浸透，厚度一般为200~500 。如(C)所示之外层SiO2作为绝缘层，要求绝缘功能杰出，其厚度一般为500~1000。
ITO导电膜玻璃制造进程
在玻璃衬底上制备透明导电膜的方法有真空蒸发法、溅射法、喷雾法、涂覆法、浸渍法、化学气压堆积法、喷镀热解法与反响离子镀等。当时工业化最有用的方法是磁控溅射法，亦称高速低温溅射法。
ITO导电膜玻璃的制作方法一般为直流反响磁控溅射法，这种方法制得的导电膜层功能比较好。用大规模直流反响磁控溅射技术制ITO导电膜玻璃的流程如下：
磨边→切角→抛光→清洗→SiO2溅射→ITO清洗→ITO溅射→检验→包装
以上就是对于ITO导电膜玻璃组成结构以及相关制造过程的分析，希望对大家有所帮助。
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